azo靶材—真相揭秘，记者追踪

在半导体领域中，导体布线采用金属成膜，一般使用AL线/Cu线布线、势垒金属、W插塞等。

常用的材料有溅射靶材、MOCVD源、WF6等。这部分材料本地生产情况如何？见下文分析。

1、溅射靶材

上，日本日本矿业占30%，日本住友化学、日本东曹、美国霍尼韦尔占20%，普莱克斯占20%。海外市场占据全市场订单的70%以上。

韩国有两家最大的溅射靶材制造商。

1江峰电子

作为上市公司，我们承担了国家02专项，产品几乎涵盖了所有靶材序列，包括ALCU/ALSI/ALSICU靶材、TI/Ta/Cu/Co/Ni靶材等。

8英寸/12英寸和许多定制尺寸。

目前产品不仅满足国内需求，还销往全各地，包括台积电、联华电子、格罗方德等。

2020年销售额116亿元，成为中国最大的目标制造商。

20亿黄金

友研亿金是友研新材料的全资子公司，主营业务为薄膜金属材料。友研新材料2020年销售额预计为1297亿元，其中溅射靶材销售额预计为6亿元。

优研益金的产品几乎涵盖了所有靶材序列，包括ALCU/ALSI/ALSICU靶材、TI/Cu/Co/Ni靶材等。

产品还销往马来西亚、新加坡、台湾等地区。

总体而言，韩国的溅射靶材技术日趋成熟，与国外的质量差距逐渐缩小，并且具有较大的价格优势，因此正在迅速占领国内市场并拓展海外市场。

2.MOCVD源

MOCVD源是用于热分解化学气相沉积的金属有机化合物，例如TiN或TaN，以及用于孔填充的阻挡金属沉积。

常见的MOCVD源包括TDMAT钛）和五二甲氨基钽。

TDMAT是CVDTiN的主要材料，上能够生产这种材料的公司并不多，主要是美国的AirChemicals和韩国的NandaOptoElectronics。

南大光电的MO源填补了国内该领域的空白，被中芯等知名企业广泛使用。

3.WF6

WF6和H2的化学还原反应生成W，这是CVDW的主要工作原理。

CVDW具有良好的孔填充效果，因此广泛用于触点/VIA等金属填充。

我国中船集团帕里特气体有限公司有多年生产WF6气体的经验，WF6是其专业。

综上所述，在金属成膜材料领域，韩国实现了所有金属成膜材料的国产化，并持续挺进海外市场，取得了重要成果。

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