气象沉积技术PPT，气象沉积技术

硅本身没有和放射性。 但是加工过程使用很多有物质和强电磁辐射的机器。 沉积法制备光伏级多晶硅薄膜。一般以高纯硅烷或三氯硅烷为气源，采用化学沉积、物理。

pecvd等离子体增强化学气相沉积技术原理是利用低温等离子体作能量源，样品置于低气压下辉光放电的阴极上，利用辉光放电（或另加发热体）使样品升温到预定的温度。

钛合金DLC涂层是类金刚石涂层，主要有两种方式实现，一种是CVD，化学气相沉积，还有一种是PVD，物理气相沉积，IP的意思是Ion plating，是离子镀，是PVD技术的。

物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD），就是涂层

磁光盘记录介质一般是通过溅射技术气相沉积技术或 其它技术在盘基表面形成记录介质层，而记录介质材料本 身的制造过程则非常复杂，目前全世界仅有为数不多的几 个。